Ion Implanters

single wafer high current ion implanter SHX-III/S

Mesin seri SHX terbaru dengan desain yang kompak ini merupakan mesin pertama di dunia yang mengadopsi kombinasi beam scans dan mechanical scans, untuk hasil dengan keakuratan dan kualitas tinggi, dan high beam current implantations dengan energi ion level sangat rendah.

Keistimewaan

  • Support untuk wafer 300mm.
  • Dapat diaplikasikan untuk proses generasi mendatang.
  • Cakupan energi:
    • Minimum: 0.2keV
    • Maksimum: 60keV
  • Beam current tinggi berkekuatan 200eV untuk menyokong produksi massa.
  • Produktivitas tinggi dengan sistem transport berkecepatan tinggi.
  • Desain kompak yang berkontribusi meminimalisasi footprint.
  • Mewujudkan tingkat reproduksi dan kesejajaran beam yang tinggi, beam size dan sudut divergence yang merata.
  • Menjamin kemurnian energi tingkat tinggi dengan level energi super rendah.
  • Kontaminasi metal dan kontaminasi silang berkurang hingga minimal.
  • Plasma shower system yang unggul mencegah muatan listrik pada wafer.
  • Berkredibilitas tinggi, perawatan mudah.
  • MIND system yang mampu meningkatkan yield dan produktivitas keseluruhan proses dengan mengkoreksi ketidakrataan yang terjadi dari proses lain.

Lini Produk

Untuk informasi lebih lanjut mengenai produk ini, silakan hubungi:

Sumitomo Heavy Industries Ion Technology Co., Ltd.

Khusus untuk barang-barang berikut ini:
Ion Implanters

Kontak